化学分析实验室采用连续化学采样检测系统（CSI）监测半导体工艺中的化学品，以检测微量金属杂质。该系统使用电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）进行24/7的连续监测，确保化学品在运输和更换过滤器过程中不受污染。在线接口软件（OIS）控制阀门、自动进样器和ICP-MS，实现自动校准和质量控制。该系统能够生成浓度和计数趋势图，并具备自动重新分析功能。

IAS 连续化学品检测系统 CSI：化学敏感仪器监测半导体晶圆厂使用的化学物质，通过连续化学采样检测（CSI）系统监测微量金属杂质，以避免器件故障。系统采用电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）对化学品进行24/7的连续监测，包括液相（LT）和气溶胶相（AT）两种样品运输方式。LT型号适用于储罐、罐体和卡车的监测，AT型号则用于监测事故。

LAGM激光剥蚀多通道原子吸收光谱系统采用飞秒激光和电流计镜，可精确烧蚀 300 毫米晶圆样品，无需小型封闭腔室。系统配备双注射器模型 MSAG_DS，支持标准加入法进行定量分析，具备点和面倾斜度、轮廓及杂质分析功能。系统能全自动操作，支持多种分析模式如全扫描、斑点、直线、块模式及深度剖面模式，适用于晶圆和非晶圆样品的全面分析。

日本IAS 硅晶圆金属污染含量分析系统 硅晶圆金属污染含量分析的工具 Expert™ 包含了－系列VPD-ICPMSI联机型号， 按自动化和无人化操作的程度不同分为实验室型多功能的Expert Lab， 通用型Expert PS和前沿制程生产线专用型Expert FAB,不同型号均可与不同晶牌的ICPMS实现全自动联机运行。